光刻机的原理及应用(光刻机的工作原理及应用场景)
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- 2024-03-10 11:33:19
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光刻机折射原理
光刻机的工作原理:利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上的图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用。这就是光刻的作用,类似照相机照相。
照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件
什么是光刻机,原理是什么
头条里对光刻机解释了很多了,大概也是对的,简图也很清楚了,就是他们疯传给了光刻机图纸也做不出来的图纸,从未有见过,几十万个零件,起码有几十万张图,这个疯传绝对是谣言。
什么是光刻机
光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。光刻机是生产大规模集成电路的核心设备,制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,世界上只有少数厂家掌握。
用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口,目前国家在积极研究和探索,相信不久的将来一定能研究制造出自己的高端光刻机。
光刻机是用来做什么的
光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路,当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等。--光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种,分别是模板与图样大小一致的contactaligner,曝光时模板紧贴芯片;以及利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。
光刻机怎么用
光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机。
用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板,国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口,本次厦门企业从荷兰进口的光刻机就是用于芯片生产的设备。
二、工作原理
在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影,得到刻在硅片上的电路图。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程。
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